1 引言 半導(dǎo)體激光器由于具有體積? ⒅亓殼?、效率高等衷渿轮Z悖潦家恢筆羌す飭煊虻墓刈⒔溝?，广泛应用釉彜业、军事、覕嚻、通兄Z戎詼嗔煊頡５怯捎謐隕砹孔于宀ǖ冀峁溝南拗疲氳繼寮す餛韉氖涑齬饈柿坑牘燙寮す餛鰲O2激光器等傳統(tǒng)激光器相比較差，阻礙了其應(yīng)用領(lǐng)域的拓展。近年來，隨著半導(dǎo)體材料外延生長(zhǎng)技術(shù)、半導(dǎo)體激光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)優(yōu)化技術(shù)、腔面鈍化技術(shù)、高穩(wěn)定性封裝技術(shù)、高效散熱技術(shù)的飛速發(fā)展，特別是在直接半導(dǎo)體激光工業(yè)加工應(yīng)用以及大功率光纖激光器抽運(yùn)需求的推動(dòng)下，具有大功率、高光束質(zhì)量的半導(dǎo)體激光器飛速發(fā)展，為獲得高質(zhì)量、高性能的直接半導(dǎo)體激光加工設(shè)備以及高性能大功率光纖激光抽運(yùn)源提供了光源基? ? 2 大功率半導(dǎo)體激光器件最新進(jìn)展 作為半導(dǎo)體激光系統(tǒng)集成的基本單元，不同結(jié)構(gòu)與種類的半導(dǎo)體激光器件的性能提升直接推動(dòng)了半導(dǎo)體激光器系統(tǒng)的發(fā)展，其中最為主要的是半導(dǎo)體激光器件輸出光束發(fā)散角的降低以及輸出功率的不斷增加。 2.1 大功率半導(dǎo)體激光器件遠(yuǎn)場(chǎng)發(fā)散角控制 根據(jù)光束質(zhì)量的定義，以激光光束的光參數(shù)乘積（BPP）作為光束質(zhì)量的衡量指標(biāo)，激光光束的遠(yuǎn)場(chǎng)發(fā)散角與BPP成正比，因此半導(dǎo)體激光器高功率輸出條件下遠(yuǎn)場(chǎng)發(fā)散角控制直接決定器件的光束質(zhì)量。從整體上看，半導(dǎo)體激光器波導(dǎo)結(jié)構(gòu)導(dǎo)致其遠(yuǎn)場(chǎng)光束嚴(yán)重不對(duì)稱?？燧S方向可認(rèn)為是基模輸出，光束質(zhì)量好，但發(fā)散角大，快軸發(fā)散角的壓縮可有效降低快軸準(zhǔn)直鏡的孔徑要求。慢軸方向?yàn)槎嗄］敵?，光束質(zhì)量差，該方向發(fā)散角的減小直接提高器件光束質(zhì)量，是高光束半導(dǎo)體激光器研究領(lǐng)域關(guān)注的焦點(diǎn)。 在快軸發(fā)散角控制方面，如何兼顧快軸發(fā)散角和電光效率的問題一直是該領(lǐng)域研究熱點(diǎn)，盡管多家研究機(jī)構(gòu)相續(xù)獲得快軸發(fā)散角僅為3o，甚至1o的器件，但是基于功率、光電效率及制備成本考慮，短期內(nèi)難以推廣實(shí)用。2010年初，德國費(fèi)迪南德-伯恩研究所(Ferdinand-Braun-Institute)的P. Crump等通過采用大光腔、低限制因子的方法獲得了30o快軸發(fā)散角（95%能量范圍），光電轉(zhuǎn)換效率為55%，基本達(dá)到實(shí)用化器件標(biāo)準(zhǔn)。而目前商用高功率半導(dǎo)體激光器件的快軸發(fā)散角也由原來的80o左右（95%能量范圍）降低到50o以下，大幅度降低了對(duì)快軸準(zhǔn)直鏡的數(shù)值孔徑要求。 在慢軸發(fā)散角控制方面，最近研究表明，除器件自身結(jié)構(gòu)外，驅(qū)動(dòng)電流密度與熱效應(yīng)共同影響半導(dǎo)體激光器慢軸發(fā)散角的大小，即長(zhǎng)腔長(zhǎng)單元器件的慢軸發(fā)散角最易控制，而在陣列器件中，隨著填充因子的增大，發(fā)光單元之間熱串?dāng)_的加劇會(huì)導(dǎo)致慢軸發(fā)散角的增大。2009年，瑞士Bookham公司制備獲得的5 mm腔長(zhǎng)，9XX nm波段10 W商用器件，成功將慢軸發(fā)散角（95%能量范圍）由原來的10o～12o降低到7o左右；同年，德國Osram公司、美國相干公司制備陣列器件慢軸發(fā)散角（95%能量范圍）也達(dá)7o水平。 2.2 半導(dǎo)體激光標(biāo)準(zhǔn)厘米陣列發(fā)展現(xiàn)狀 標(biāo)準(zhǔn)厘米陣列是為了獲得高功率輸出而在慢軸方向尺度為1 cm的襯底上橫向并聯(lián)集成多個(gè)半導(dǎo)體激光單元器件而獲得的半導(dǎo)體激光器件，長(zhǎng)期以來一直是大功率半導(dǎo)體激光器中最常用的高功率器件形式。伴隨著高質(zhì)量、低缺陷半導(dǎo)體材料外延生長(zhǎng)技術(shù)及腔面鈍化技術(shù)的提高，現(xiàn)有CM Bar的腔長(zhǎng)由原來的0.6～1.0 mm增大到2.0～5.0mm，使得CM Bar輸出功率大幅度提高。2008年初，美國光譜物理公司Hanxuan Li等制備的5 mm腔長(zhǎng)，填充因子為83%的半導(dǎo)體激光陣列，利用雙面微通道熱沉冷卻，在中心波長(zhǎng)分別為808 nm，940 nm，980 nm處獲得800 W/bar，1010W/bar，950 W/bar的當(dāng)前實(shí)驗(yàn)室最高CM Bar連續(xù)功率輸出水平。此外，德國的JENOPTIK公司、瑞士的Oclaro公司等多家半導(dǎo)體激光供應(yīng)商也相續(xù)制備獲得千瓦級(jí)半導(dǎo)體激光陣列，其中Oclaro公司的J. Müller等更是明確指出，在現(xiàn)有技術(shù)條件下制備獲得1.5kW/bar陣列器件已不成問題。與此同時(shí)，具有高光束質(zhì)量的低填充因子CM Bar的功率也不斷提高，表1為德國Limo公司獲得具有不同填充因子CM Bar的BPP比較, 由表1結(jié)果發(fā)現(xiàn)橫向尺寸一定的半導(dǎo)體激光陣列器件，在發(fā)散角相同的情況下，填充因子與BPP成正比，即填充因子越低，其光參數(shù)乘積越小，光束質(zhì)量越好。目前，9XX nm波段20%填充因子CM Bar連續(xù)輸出功率最高可達(dá)180 W/bar，快慢軸光束質(zhì)量對(duì)稱化后光參數(shù)乘積可達(dá)5.9 mm?mrad，商用器件可長(zhǎng)期穩(wěn)定工作在80W以上；2.5%填充因子CM Bar連續(xù)輸出功率可達(dá)50 W/bar，快慢軸光束質(zhì)量對(duì)稱化后光參數(shù)乘積可達(dá)2.1mm?mrad，目前這種器件還處于研發(fā)中，需要進(jìn)一步提高其穩(wěn)定的輸出功率。然而，伴隨著CM Bar功率的不斷提高和高光束質(zhì)量要求下填充因子逐漸減小，一系列新的問題也隨之產(chǎn)生，特別是與之配套的低壓大電流恒流電源的高成本問題以及微通道熱沉散熱壽命短的問題逐漸顯現(xiàn)。 分析眾多超高功率CM Bar文獻(xiàn)可以發(fā)現(xiàn)，多數(shù)功率測(cè)試均受制于電源最大電流的限制，而非CM Bar自身出射功率極限，而在工程運(yùn)用中，數(shù)伏電壓數(shù)百安電流的組合也會(huì)產(chǎn)生眾多實(shí)際問題。另一方面，超高功率CM Bar和具有高光束質(zhì)量的低填充因子CM Bar所產(chǎn)生的高熱流密度必須采用微通道熱沉散熱，而現(xiàn)有水冷微通道熱沉的散熱極限無疑也成為了CM Bar功率及光束質(zhì)量進(jìn)一步提高的最大障礙。近期針對(duì)CM Bar散熱問題開發(fā)的雙面微通道冷卻技術(shù)對(duì)熱阻的降低作用有限，就目前看來缺乏與CM Bar功率提升相適應(yīng)的可持續(xù)發(fā)展性。此外，不可忽視的是，微通道熱沉相對(duì)較短的壽命一直是目前大功率半導(dǎo)體激光器的壽命瓶頸。而其他新型高效散熱技術(shù)如相變冷卻、噴霧冷卻以及微熱管技術(shù)由于其性能特點(diǎn)、成本以及結(jié)構(gòu)兼容性問題在短期內(nèi)難以真正實(shí)用于CM Bar散熱領(lǐng)域。鑒于以上兩方面的限制，近一兩年來，各大研究機(jī)構(gòu)及高功率半導(dǎo)體供應(yīng)商并不再一味追求提高CM Bar的輸出功率，而是逐漸將發(fā)展重點(diǎn)轉(zhuǎn)移到具有大功率、高光束質(zhì)量的半導(dǎo)體激光單元器件和短陣列器件研制領(lǐng)域。 2.3 大功率半導(dǎo)體激光單元器件發(fā)展現(xiàn)狀 與CM Bar相比，半導(dǎo)體激光單元器件具有獨(dú)立的電、熱工作環(huán)境，避免了發(fā)光單元之間的熱串?dāng)_，使其在壽命、光束質(zhì)量方面與CM Bar相比具有明顯優(yōu)勢(shì)。此外單元器件驅(qū)動(dòng)電流低、多個(gè)串聯(lián)工作大幅度降低了對(duì)驅(qū)動(dòng)電源的要求。同時(shí)單元器件的發(fā)熱量相對(duì)較低，可直接采用傳導(dǎo)熱沉散熱，避免了微通道熱沉引入的壽命短的問題。而且獨(dú)立的熱工作環(huán)境使其可高功率密度工作，目前單元器件的有源區(qū)光功率線密度可達(dá)200 mW/μm以上，同時(shí)具有較窄的光譜寬度，而CM Bar有源區(qū)光功率線密度僅為50~85 mW/μm左右。特別是獨(dú)立的熱、電工作環(huán)境大幅度降低了器件的失效幾率，在高穩(wěn)定性金錫焊料封裝技術(shù)的支撐下，商用高功率單元器件壽命均達(dá)10萬小時(shí)以上，遠(yuǎn)高于CM Bar的壽命，有效降低了器件的使用成本。基于上述優(yōu)點(diǎn)，單元器件大有逐漸替代CM Bar成為高功率、高光束質(zhì)量半導(dǎo)體激光主流器件的趨勢(shì)。 在此背景下，單元器件近年來得到了迅速發(fā)展，尤其在高功率光纖激光器對(duì)高亮度半導(dǎo)體激光光纖耦合抽運(yùn)模塊需求推動(dòng)下，與105 μm/125 μm多模尾纖匹配的，發(fā)光單元條寬為90～100 μm的單元器件在功率和光束質(zhì)量方面均大幅度提升。目前，多個(gè)研究小組制備該結(jié)構(gòu)9XX nm波段單元器件連續(xù)輸出功率均達(dá)20~25 W/emitter水平；同結(jié)構(gòu)8XX nm波段器件連續(xù)輸出功率也超過了12W/emitter。而在商用器件方面，IPG公司、Oclaro公司、JDSU公司等多個(gè)大功率半導(dǎo)體激光器件供應(yīng)商制備90~100 μm條寬9XX nm波段單元器件均能連續(xù)穩(wěn)定工作在10W/emitter以上，多個(gè)單管合成可獲得100 W以上的光纖耦合輸出。 2.4 大功率半導(dǎo)體激光短陣列器件發(fā)展現(xiàn)狀 盡管半導(dǎo)體激光單元器件功率提高很快，但單個(gè)器件輸出功率較CM Bar仍有較大差距，為了滿足不同功率運(yùn)用需求，一種新型大功率半導(dǎo)體激光器件—半導(dǎo)體激光短陣列得以出現(xiàn)并迅速發(fā)展。短陣列器件是在同一芯片襯底上集成數(shù)個(gè)單元器件而獲得，它實(shí)際是CM Bar與單元器件在結(jié)構(gòu)上的折衷優(yōu)化，驅(qū)動(dòng)電流、壽命以及腔面輸出光功率密度、光譜寬度等指標(biāo)均介于CM Bar和單元器件兩者之間，兼顧了CM Bar與單元器件各自優(yōu)點(diǎn)。同樣是考慮到高光束質(zhì)量及與光纖激光器抽運(yùn)源的需求，短陣列器件的發(fā)展主要集中在100 μm條寬的低填充因子器件方面。2009年，德國Osram與DILAS公司合作利用包含5個(gè)100 μm條寬、4 mm腔長(zhǎng)980 nm發(fā)光單元的短陣列器件(填充因子10%)獲得連續(xù)輸出功率大于80 W，光電轉(zhuǎn)換效率高于60%，其內(nèi)部發(fā)光單元功率16W/emitter，接近了單元器件的光功率密度水平，值得一提的是該器件在壽命測(cè)試中展現(xiàn)出了類似單元器件的壽命特性，當(dāng)短陣列器件內(nèi)部單個(gè)發(fā)光單元失效后，整個(gè)器件并未燒毀而僅表現(xiàn)為功率下降。鑒于短陣列器件優(yōu)良的功率及壽命特性，目前正迅速推廣應(yīng)用于高光束質(zhì)量大功率半導(dǎo)體激光器及光纖耦合輸出抽運(yùn)模塊中，目前該類以100 μm發(fā)光單元為基礎(chǔ)的9 XX nm波段商用器件可長(zhǎng)期穩(wěn)定在8 W/emitter，而808 nm器件也達(dá)5 W/emitter水平。表1 不同結(jié)構(gòu)CM Bar光參數(shù)乘積 3 大功率高光束質(zhì)量半導(dǎo)體激光器發(fā)展現(xiàn)狀 半導(dǎo)體激光器件功率的增大與發(fā)散角的降低促進(jìn)了大功率半導(dǎo)體激光器光束質(zhì)量的迅速提高，直接體現(xiàn)在光纖激光器抽運(yùn)源用單波長(zhǎng)、光纖耦合輸出半導(dǎo)體激光模塊尾纖直徑的減小以及出纖功率的不斷增大。目前，該類單波長(zhǎng)光纖耦合輸出半導(dǎo)體激光模塊根據(jù)其內(nèi)部采用的半導(dǎo)體激光器件類型及其封裝形式不同可分為以下幾種具體形式。 3.1 半導(dǎo)體激光單元器件集成光纖耦合輸出 在出纖功率要求不高的情況下，利用單管半導(dǎo)體激光器件可直接耦合進(jìn)入光纖獲得激光輸出（如圖1），該結(jié)構(gòu)具有體積? ⒊殺鏡汀⑹倜?、茧H醭墑斕扔諾悖殼骯舛嗉野氳繼寮す餛鞴┯ι嘆锏?~10W/module水平。該領(lǐng)域國內(nèi)以北京凱普林光電技術(shù)公司較為領(lǐng)先，單模塊出纖功率與國外水平基本相當(dāng)。 圖1 單個(gè)單元器件直接光纖耦合輸出模塊在出纖功率要求較高的情況下，利用多個(gè)經(jīng)快軸準(zhǔn)直鏡（FAC）準(zhǔn)直的單元器件所發(fā)出的光束，在快軸方向上緊密排列，經(jīng)偏振合束，然后聚焦耦合進(jìn)光纖。2009年，美國Nlight公司利用該結(jié)構(gòu)集成14個(gè)單元器件獲得了NA=0.15，105 μm芯徑光纖單模塊輸出100 W（如圖2），耦合效率71%。該類結(jié)構(gòu)模塊具有體積? ⒘煉雀?、寿命长等又Z悖誆抗庋г啵暗髂訊卻?，硽⒕高? 圖2 多個(gè)單管半導(dǎo)體激光器件集成光纖耦合輸出模塊光路結(jié)構(gòu)3.2 半導(dǎo)體激光短陣列器件集成光纖耦合輸出 利用多個(gè)經(jīng)快軸準(zhǔn)直鏡準(zhǔn)直后的短陣列器件所發(fā)出的光束，在快軸方向上緊密排列，經(jīng)偏振合束，然后聚焦耦合進(jìn)光纖。2007年，德國DILAS公司利用該結(jié)構(gòu)（如圖3）獲得了NA=0.22，200 μm芯徑光纖單模塊輸出500 W，耦合效率83%。該結(jié)構(gòu)模塊亮度高，壽命長(zhǎng)，但光學(xué)元件多，裝調(diào)集成難度大，成本高。 圖3 多個(gè)短陣列器件集成光纖耦合輸出模塊結(jié)構(gòu)3.3 微通道熱沉封裝結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體激光陣列堆光纖耦合輸出 微通道熱沉封裝結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體激光陣列堆(CM Bar Stack)輸出光束經(jīng)快、慢軸準(zhǔn)直后，空間集成，快慢軸光束均勻化，然后聚焦耦合進(jìn)入光纖（如圖4）。目前，該結(jié)構(gòu)可達(dá)NA=0.22，200μm芯徑光纖單模塊輸出400W，該結(jié)構(gòu)模塊亮度較高，光學(xué)元件少，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，但成本較高，而且必須采用去離子水作為冷卻介質(zhì)，使用維護(hù)要求高，同時(shí)由于在去離子水的侵蝕作用下微通道熱沉壽命較短，如果不進(jìn)行精細(xì)的冷卻水管理，會(huì)導(dǎo)致該結(jié)構(gòu)模塊壽命僅為2萬小時(shí)左右。 圖4 多個(gè)微通道冷卻半導(dǎo)體激光堆集成光纖耦合輸出模塊結(jié)構(gòu) 3.4 傳導(dǎo)熱沉封裝半導(dǎo)體激光陣列光纖耦合輸出 多個(gè)傳導(dǎo)熱沉封裝結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體激光陣列輸出光束經(jīng)快、慢軸準(zhǔn)直后空間集成后直接通過聚焦耦合系統(tǒng)進(jìn)入光纖。目前，德國DILAS公司利用該思路獲得了NA=0.22，200 μm芯徑光纖單模塊輸出200 W；400μm芯徑光纖單模塊輸出500 W，耦合效率約為80%。該類結(jié)構(gòu)模塊（如圖5）盡管較其他幾種結(jié)構(gòu)相比亮度稍低，但具有光學(xué)元件少、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、壽命較長(zhǎng)、免維護(hù)、成本低等優(yōu)點(diǎn)。 圖5 多個(gè)傳導(dǎo)熱沉封裝半導(dǎo)體激光陣列集成模塊結(jié)構(gòu)在面向直接工業(yè)應(yīng)用的高功率高光束質(zhì)量半導(dǎo)體激光器方面，當(dāng)材料加工對(duì)于半導(dǎo)體激光輸出波長(zhǎng)不敏感的情況下，除通過以上技術(shù)手段獲得高功率高光束質(zhì)量半導(dǎo)體激光輸出外，還可通過波長(zhǎng)合束技術(shù)與偏振合束技術(shù)，在輸出光束質(zhì)量不變的情況下，根據(jù)合束波長(zhǎng)的個(gè)數(shù)而倍增輸出功率。在該領(lǐng)域，德國的Laserline公司技術(shù)較為領(lǐng)先，采用微通道封裝CM Bar Stack集成獲得從數(shù)百瓦至萬瓦級(jí)高功率、高光束質(zhì)量激光加工系統(tǒng): 2000 W (BPP:20 mm·mrad)，4000 W (BPP:30 mm·mrad)，10000 W (BPP:100 mm·mrad)。國內(nèi)北京工業(yè)大學(xué)激光工程研究院在半導(dǎo)體激光快慢軸光束質(zhì)量均勻化方面獲得突破，采用微通道冷卻封裝的CM Bar Stack集成結(jié)構(gòu)于2008年獲得了面向工業(yè)材料加工用的千瓦級(jí)半導(dǎo)體激光系統(tǒng)，BPP小于12 mm·mrad，超過了千瓦商用全固態(tài)激光器的光束質(zhì)量。 4 結(jié)語與展望 隨著半導(dǎo)體材料外延生長(zhǎng)技術(shù)、半導(dǎo)體激光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)優(yōu)化技術(shù)、腔面鈍化技術(shù)、高穩(wěn)定性封裝技術(shù)、高效散熱技術(shù)水平的不斷提高，半導(dǎo)體激光器功率及光束質(zhì)量飛速發(fā)展，促進(jìn)了直接工業(yè)用半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)和高功率光纖激光器的發(fā)展。目前國際上直接工業(yè)用大功率半導(dǎo)體激光器在輸出功率5000 W級(jí)別已超過燈抽運(yùn)固體激光器的光束質(zhì)量，在1000 W級(jí)別已超過全固態(tài)激光器的光束質(zhì)量。隨著化合物半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步，工業(yè)用大功率半導(dǎo)體激光器的輸出功率和光束質(zhì)量將進(jìn)一步提高，將進(jìn)一步擴(kuò)展其工業(yè)應(yīng)用范圍。在高功率光纖激光器抽運(yùn)源方面，光纖耦合輸出的功率不斷上升，光纖芯徑和數(shù)值孔徑不斷降低，導(dǎo)致光纖激光器的抽運(yùn)亮度不斷提高，同時(shí)成本卻不斷下降，因此未來高功率光纖激光器的輸出功率與光束質(zhì)量也將不斷地提高?？梢灶A(yù)計(jì)，在未來工業(yè)激光加工中，特別是在金屬激光加工領(lǐng)域，大功率半導(dǎo)體激光器主要應(yīng)用在激光表面處理、激光熔覆和近距離激光焊接領(lǐng)域，而大功率光纖激光器主要應(yīng)用在光束質(zhì)量要求更高的激光切割和遠(yuǎn)程激光焊接領(lǐng)域。 在國內(nèi)，最近幾年高功率、高光束質(zhì)量大功率半導(dǎo)體激光器相關(guān)領(lǐng)域方面也取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步，如北京凱普林光電公司在單個(gè)單元器件的光纖耦合方面，西安炬光科技公司在半導(dǎo)體激光芯片的封裝方面均接近或達(dá)到了國際先進(jìn)水平，北京工業(yè)大學(xué)在半導(dǎo)體激光器系統(tǒng)方面達(dá)到了國際先進(jìn)水平。但是在半導(dǎo)體激光器的核心部件—半導(dǎo)體激光芯片的研制和生產(chǎn)方面，一直受外延生長(zhǎng)技術(shù)、腔面鈍化技術(shù)以及器件制作工藝水平的限制，國產(chǎn)半導(dǎo)體激光器件的功率、壽命方面較之國外先進(jìn)水平尚有較大差距。這導(dǎo)致國內(nèi)實(shí)用化高功率、長(zhǎng)壽命半導(dǎo)體激光芯片主要依賴于進(jìn)口，直接導(dǎo)致我國半導(dǎo)體激光器系統(tǒng)的價(jià)格居高不下，嚴(yán)重影響了大功率半導(dǎo)體激光器在我國的推廣應(yīng)用，同時(shí)也限制了我國高功率光纖激光器的研制和開發(fā)?？上驳氖牵S著當(dāng)前我國化合物半導(dǎo)體器件，如LED、多節(jié)GaAs太陽能電池、紅外熱成像器等技術(shù)的不斷應(yīng)用和發(fā)展，化合物半導(dǎo)體器件的外延技術(shù)和封裝技術(shù)將不斷成熟，這些技術(shù)應(yīng)用于同是化合物半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體激光器，大大促進(jìn)半導(dǎo)體激光器件的國產(chǎn)化，從而推動(dòng)半導(dǎo)體激光器這一高效、節(jié)能型激光器更廣泛地運(yùn)用于我國的工業(yè)、國防、科研等領(lǐng)域中。